Таков извилистый путь производителей на закате закона Мура. На этой неделе компания Samsung Electronics заявила, что планируют освоить 11-нанометровый техпроцесс для выпуска однокристальных платформ, предназначенных для среднебюджетных и дорогих смартфонов. В данном случае речь идет о техпроцессе 11-нм LPP (Low Power Plus), который ознаменует переход на следующий шаг технологических норм после 14-нм LPP, используемого ныне для выпуска таких чипов, как Snapdragon 660 и 630.
Samsung обещает, что переход на техпроцесс 11-нм LPP позволит добиться 15% прироста производительности при сохранении прежнего уровня энергопотребления. Площадь кристалла при этом должна сократиться на 10%. То есть, затраты на производство чипов должны снизиться. Первые партии готовых 11-нанометровых микросхем должны сойти с конвейера в первой половине 2018 года.
Будущие флагманские модели будут использовать новые платформы, изготовленные по нормам техпроцесса 7-нм LPP. Здесь речь о литографии с использованием жесткого ультрафиолетового излучения (EUV). Использование EUV подразумевает переход к источнику излучения с гораздо меньшей длиной волны по сравнению с используемыми сейчас – 13,5 нм против 193 нм – и применение напряженного кремния наряду с соединениями кремния и германия. Эти чипы выйдут только во второй половине будущего года. То есть, новый техпроцесс подоспеет как раз к выпуску следующей SoC Apple A12 для будущих iPhone 2018 года выпуска.
Как отметил вице-президент и директор маркетинга литейной продукции Samsung Electronics Райан Ли, переход на 7-нм техпроцесс ознаменует успешное выполнение комплексного плана по освоению новых технологических норм, рассчитанного на три года.
Вероятно, больше подробностей о своих разработках в области 7-нанометровых техпроцессов и, возможно, планах по освоению 6-нанометрового техпроцесса производитель поведает на японском форуме Samsung Foundry Forum 15 сентября.